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          全反射X射線熒光分析儀

          • 型   號:TXRF
          • 更新時間:2021-02-23

          全反射X射線熒光分析儀TXRF技術可以對從氧到鈾的所有元素進行分析,一次可以對近30種元素進行同時分析,這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。

          1.全反射X射線熒光分析儀介紹

          全反射X熒光(TXRF)分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術,使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀(EXRF)本底降低約四個量級,從而大大提高了能量分辨率和靈敏度,避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應;同時TXRF技術又繼承了EXRF方法的優越性,成為一種不可替代的全新的元素分析方法。該技術被譽為在分析領域是有競爭力的分析手段、在原子譜儀領域內處于地位。
          在X熒光譜儀范圍內,與波長色散譜儀(RF)方法比較,由于TXRF分析技術用樣量很少,也不需要制作樣品的煩瑣過程,又沒有本底增強或減弱效應,不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法,對環境溫度等要求很低。因而在簡便性、經濟性、用樣量少等方面,都比RF方法有明顯的優越性。
          TXRF技術可以對從氧到鈾的所有元素進行分析,一次可以對近30種元素進行同時分析,這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析(NAA)等方法相比較,TXRF分析方法在快速、簡便、經濟、多元素同時分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優勢。
          TXRF元素分析儀在元素分析領域內的應用現狀和發展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛應用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫藥、環保、法檢、考古、高純材料等等各領域內的常量、微量、痕量元素分析測定。特別在半導體工業中的硅片表面質量控制方面,有著不可替代的優勢,目前已在上得到廣泛應用。

          2.全反射X射線熒光分析儀技術參數
          1.地礦:金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻 ;
          2.冶金:鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承 ;
          3.化工:柴油中的硫含量,各種催化劑,陶瓷釉藥;
          4. 環境保護 :自來水、大氣飄塵、污水污泥;
          5.生物:海洋動物牙齒和體液 ;
          6.醫藥:頭發和指甲中的有益有害元素,丹參中有害微量元素 ;
          7.食品:飲料中有益和有害元素 ;
          8.刑偵法醫:撞車現場樣品鑒定 。

          3.應用范圍

          1、多元素同時分析:一次可分析近30種元素;

          2、檢出限低:zui低檢出限:pg級(10-12);zui低相對檢出限:ng/mL級(10-9);

          3、測量元素范圍廣:可以從11號元素Na到92號元素U;

          樣品用量少, μL、μg級;

          4、粉末樣品、懸浮液樣品、有平面的固體都可直接進行分析,zui低檢出限達到ng/g量級。

          5、可以進行無損分析,也可進行無標樣分析;

          6、測量時間短:一般在10秒-1000秒;

          7、輸入功率:小于500W;

          8、自動化程度高,操作方便。


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